【本文轉自微信公眾號“科工力量”（ID：guanchacaijing）】

日前，中國半導體產業(yè)研發(fā)機構上海集成電路研發(fā)中心宣布與國際光刻巨頭ASML簽訂合作備忘錄，將在上海合作共建一個半導體光刻人才培訓中心。

其實，這并不是ASML與國內單位第一次合作——在幾個月前，上海微電子裝備（集團）股份有限公司（SMEE）宣布與之簽署戰(zhàn)略合作備忘錄。聯(lián)系到近年來多家國內單位取得光刻機技術突破。也許在攻克光刻機技術難關方面，中國和很多領域一樣，選擇了兩條腿走路的方式。

高端光刻機基本依賴進口

光刻機被業(yè)界譽為集成電路產業(yè)皇冠上的明珠，研發(fā)最新型的光刻機的技術門檻和資金門檻非常高。目前全球高端光刻機市場基本被荷蘭ASML壟斷，Intel、臺積電、聯(lián)電、三星、格羅方德、中芯國際等世界馳名的晶圓廠都是ASML的大客戶。最先進的EUV光刻機全球僅僅ASML能夠生產——Intel、三星、臺積電用來加工10nm芯片的光刻機都是購買自ASML。

正是因為技術上的壟斷地位，以及光刻機本身研發(fā)成本高、制造成本不菲，ASML的EUV光刻機售價非常高，在去年第三季度和第四季度出售的兩臺EUV光刻機售價都超過1億美元，落后EUV一代的ArF光刻機平均售價也在4000萬至5000萬歐元左右。

ASML EVU光刻機

ASML之所以能在高端光刻機領域獨占鰲頭，本質上也是西方國家科學技術充分整合的體現(xiàn)，ASML生產光刻機所用的關鍵零部件，比如光源、物鏡其實也是西方供應商提供，像加工光學儀器的機床等一些設備也是源自德國。此外，Intel、臺積電、三星都是ASML的股東之一，向ASML提供資金。

相比之下，國內光刻機廠商則顯得非常寒酸，處于技術領先的上海微電子裝備有限公司已量產的光刻機中性能最好的是能用來加工90nm芯片的光刻機，技術差距說是鴻溝都不為過，正是因此，國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。

網上一些輿論很喜歡將中國在某個領域的技術水平和西方最先進的國家相比，然后得出一些非常悲觀的結論。在光刻機方面，如果將中國與荷蘭做對比也許就不那么合適了。畢竟中國在該項技術上，并非落后于某一個國家，而是在與整個西方的高端精密制造實力相較量。

國內單位在光刻機領域取得突破

正是因為高端光刻機是非常關鍵的半導體設備，國家對于實現(xiàn)高端光刻機國產化非常重視，《中國制造2025》將其列為了集成電路制造領域的發(fā)展重點。因此，即便在光刻機技術上中國與ASML的差距非常大，國內各單位其實也在刻苦攻堅，力爭實現(xiàn)技術突破，以實現(xiàn)早日追趕上ASML。

在去年，成都光機所找到了一條能夠繞開傳統(tǒng)的193nm曝光的技術路線，利用長波長光源也可以得到一個突破衍射極限的分辨率的圖形。在實驗中，這種光刻機可以實現(xiàn)單次成像達到22納米水平，如果結合多重曝光技術，就可以用于制備10納米以下的信息器件。必須說明的是，這種技術如果能夠產業(yè)化，那么相對于現(xiàn)有的技術而言，在成本上和安全性方面都會有一個很大的提升，而且成都光機所取得的技術突破是國內原創(chuàng)性技術。