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中微5納米刻蝕機(jī)已獲批量訂單,僅臺(tái)積電、三星掌握工藝
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呂棟寧?kù)o致遠(yuǎn)。
最后更新: 2020-04-24 08:14:30(文/觀察者網(wǎng) 呂棟)去年底公開(kāi)其“5nm刻蝕機(jī)已獲臺(tái)積電認(rèn)可”的中微公司,已經(jīng)獲得批量訂單。
在中微公司(688012.SH)日前發(fā)布的2019年財(cái)報(bào)中,相比于108%的凈利潤(rùn)增速,更值得關(guān)注的是其透露:“根據(jù)先進(jìn)集成電路廠商的需求,已開(kāi)發(fā)出5nm刻蝕設(shè)備用于若干關(guān)鍵步驟的加工,并已獲得行業(yè)領(lǐng)先客戶的批量訂單?!?
目前,5nm制程是集成電路制造領(lǐng)域最先進(jìn)的工藝,雖然三星和臺(tái)積電均宣稱已掌握該工藝,但現(xiàn)在已量產(chǎn)出貨的僅后者一家,并計(jì)劃在二季度放量。
對(duì)5nm產(chǎn)能的爭(zhēng)奪異常激烈。觀察者網(wǎng)此前報(bào)道,由于海思調(diào)降向臺(tái)積電的5nm訂單,相關(guān)產(chǎn)能已被蘋(píng)果“盡數(shù)吃掉”。后者還要求臺(tái)積電今年第四季度追加近1萬(wàn)片產(chǎn)能,與AMD等爭(zhēng)奪5nm產(chǎn)能。
中微公司招股書(shū)截圖
除此之外,中微公司還公開(kāi)稱,其電容性等離子體介質(zhì)刻蝕設(shè)備已應(yīng)用于64層閃存器件的量產(chǎn),正在開(kāi)發(fā)新一代涵蓋128層和更先進(jìn)關(guān)鍵刻蝕應(yīng)用的刻蝕設(shè)備和工藝。
而長(zhǎng)江存儲(chǔ)早在2018年已成為中微公司第三大客戶,當(dāng)時(shí),前者占其營(yíng)收比重為11%。
值得注意的是,雖然中微公司的刻蝕設(shè)備已在國(guó)際市場(chǎng)擁有一席之地,但全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)目前仍由國(guó)外廠商主導(dǎo),行業(yè)呈現(xiàn)高度壟斷的競(jìng)爭(zhēng)格局,2018年前五大廠商占據(jù)的市場(chǎng)份額超過(guò)65%。
在2019年業(yè)績(jī)說(shuō)明會(huì)上,中微公司董事長(zhǎng)尹志堯坦言:對(duì)于一些最高端的刻蝕應(yīng)用,其刻蝕機(jī)還有不足的地方,還需進(jìn)一步技術(shù)創(chuàng)新和設(shè)備的升級(jí),該公司正在開(kāi)發(fā)新一代的刻蝕機(jī)。
自去年7月登陸科創(chuàng)板以來(lái),中微公司股價(jià)漲幅達(dá)97%接近翻倍,市值840億元。今日中微公司收跌2.34%,報(bào)155.96元/股。
“5nm刻蝕設(shè)備獲領(lǐng)先客戶批量訂單”
觀察者網(wǎng)梳理發(fā)現(xiàn),在集成電路產(chǎn)業(yè)中,設(shè)備主要包括晶圓制造設(shè)備、封裝設(shè)備和測(cè)試設(shè)備等,其中晶圓制造設(shè)備的市場(chǎng)規(guī)模占比超過(guò)集成電路設(shè)備整體市場(chǎng)規(guī)模的80%。
而晶圓制造設(shè)備從類別上講可以分為刻蝕、光刻、薄膜沉積、檢測(cè)、涂膠顯影等十多類,其合計(jì)投資總額通常占整個(gè)晶圓廠投資總額的75%左右,其中刻蝕設(shè)備、光刻設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備是集成電路前道生產(chǎn)工藝中最重要的三類設(shè)備,三者分別占晶圓制造設(shè)備價(jià)值量的24%、23%和18%。
中微公司招股書(shū)截圖
2019年財(cái)報(bào)顯示,中微公司等離子體刻蝕設(shè)備已用在國(guó)內(nèi)外廠商55nm到5nm的眾多芯片生產(chǎn)線上。
據(jù)中微公司介紹,根據(jù)先進(jìn)集成電路廠商的需求,其已開(kāi)發(fā)出5納米刻蝕設(shè)備用于若干關(guān)鍵步驟的加工,并已獲得行業(yè)領(lǐng)先客戶的批量訂單。其目前正在配合客戶需求,開(kāi)發(fā)新一代刻蝕設(shè)備和包括更先進(jìn)大馬士革在內(nèi)的刻蝕工藝,能夠涵蓋5納米以下刻蝕需求和更多不同關(guān)鍵應(yīng)用的設(shè)備。
2019年財(cái)報(bào)截圖
值得注意的是,目前公開(kāi)稱掌握5nm制程的僅有臺(tái)積電和三星兩家。
臺(tái)積電5nm工藝目前已量產(chǎn)出貨,第二季度將擴(kuò)大生產(chǎn);三星預(yù)計(jì)今年6月底左右完成5nm產(chǎn)線建設(shè),量產(chǎn)時(shí)間要等到今年底或明年初。
圖自富途證券
事實(shí)上,早在2018年底,中微公司就曾對(duì)外透露,其自主研發(fā)的5nm等離子體刻蝕機(jī)經(jīng)臺(tái)積電驗(yàn)證,性能優(yōu)良,將用于后者的全球首條5nm制程生產(chǎn)線。
值得一提的是,中微公司也是唯一進(jìn)入臺(tái)積電7nm制程蝕刻設(shè)備的大陸半導(dǎo)體設(shè)備商。根據(jù)公開(kāi)報(bào)道,該公司與臺(tái)積電在28nm制程時(shí)便已開(kāi)始合作,并一直延續(xù)到10nm和7nm制程。
中微公司曾在招股書(shū)中介紹,由于其開(kāi)發(fā)出與美國(guó)設(shè)備公司具有同等質(zhì)量和相當(dāng)數(shù)量的等離子體刻蝕設(shè)備并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),美國(guó)商務(wù)部在2015年宣布解除了對(duì)中國(guó)等離子體刻蝕設(shè)備多年的出口管制。
因此,也有部分自媒體借此炒作其董事長(zhǎng)為“中國(guó)最強(qiáng)牛人”。
該公司此前回應(yīng)指出,個(gè)別媒體虛構(gòu)部分不實(shí)情節(jié)并冠以夸張的標(biāo)題,該等不實(shí)的內(nèi)容在集成電路業(yè)界產(chǎn)生了較大的負(fù)面影響,同時(shí)也使其業(yè)務(wù)開(kāi)展及其董事長(zhǎng)尹志堯個(gè)人受到困擾。
資料圖
- 責(zé)任編輯: 呂棟 
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