【文/觀察者網(wǎng) 鄒煦晨 編輯/呂棟】

10月9日，曾因“光刻機概念”被資金熱捧的蘇大維格一度大跌13.81%。截至收盤，蘇大維格跌幅收窄至5.99%，為25.25元/股，總市值為65.56億元。

股價走勢圖，數(shù)據(jù)來源：東方財富

消息面上，10月8日晚間，蘇大維格公布了關注函回復，以及收到證監(jiān)會的立案通知。立案告知書顯示，因蘇大維格涉嫌信息披露違法違規(guī)，根據(jù)《中華人民共和國證券法》《中華人民共和國行政處罰法》等法律法規(guī)，中國證監(jiān)會決定對蘇大維格立案調(diào)查。

蘇大維格對此表示，立案調(diào)查期間，公司將積極配合中國證監(jiān)會的調(diào)查工作。

立案通知書，數(shù)據(jù)來源：公司公告

此前，蘇大維格于9月14日在互動平臺表態(tài)“公司光刻機已實現(xiàn)向國內(nèi)龍頭芯片企業(yè)的銷售”，公司股價在下午開盤后快速拉升，并最終實現(xiàn)20%漲停，收于33.12元/股，當天成交額達到15.55億元，換手率高達25.89%。9月15日，深交所對蘇大維格發(fā)出關注函，并提出5大問題。

資料顯示，光刻技術是現(xiàn)代半導體、顯示面板、光電子等領域的產(chǎn)品制造過程中不可或缺的工藝流程之一。從曝光方式上，光刻機可以分為掩模光刻機（在運行過程中均需要使用掩模板），包括接觸式/接近式光刻機，投影式光刻機（如DUV 和EUV）等；以及無掩模光刻機，即直寫光刻機，包括電子束光刻機、激光直寫光刻機、激光直接成像設備（LDI）等。半導體及平板顯示制造普遍采用“直寫光刻制作掩模+投影光刻批量復制”的工藝過程。

在監(jiān)管部門的問詢之下，蘇大維格坦稱，一般所稱的光刻機是有掩模光刻機中的投影式光刻機，與公司所生產(chǎn)的激光直寫光刻機不屬于同一技術路線。公司所生產(chǎn)的光刻設備目前不涉及集成電路領域相關產(chǎn)品的生產(chǎn)。

另外，蘇大維格于9月14日在互動平臺回應光刻機話題時表示，“公司光刻機已實現(xiàn)向國內(nèi)龍頭芯片企業(yè)的銷售，并已實現(xiàn)向日本、韓國、以色列等國家的出口；同時，公司向國內(nèi)相關芯片光刻機廠商提供了定位光柵尺部件?！?

但10月8日的回復函顯示，蘇大維格開發(fā)生產(chǎn)的激光直寫光刻設備是一種多用途的設備，目前主要是自用，公司對外銷售的金額較小，2022 年實現(xiàn)對外銷售收入約770.93 萬元，2023 年上半年實現(xiàn)對外銷售收入約 2,177.27 萬元，客戶主要包括兩類：第一類是高校和科研院所，其采購公司光刻設備主要是用作相關領域的研究。第二類客戶是除高校和科研院所外的其他客戶，主要包含各類企業(yè)客戶，其采購公司光刻設備主要用于其部分產(chǎn)品的研發(fā)及小批量試制、微納光學材料及光通訊器件的制作等領域。

從銷售區(qū)域來看，蘇大維格光刻設備收入以境內(nèi)為主。2022年境外收入為310.09萬元，2023年上半年則為0。

銷售區(qū)域摘要，數(shù)據(jù)來源：回復函

回復函顯示，蘇大維格光刻設備目前不涉及集成電路領域相關產(chǎn)品的生產(chǎn)，這部分市場被行業(yè)龍頭公司主導和壟斷。蘇大維格光刻設備主要為自用于各類微納光學產(chǎn)品和衍射光學器件的制造，對外銷售金額較小，外部客戶采購主要用于相關領域的研發(fā)、試制和微納光學材料等生產(chǎn)。蘇大維格激光直寫光刻設備在最小線寬、線寬均勻度、網(wǎng)格精度、穩(wěn)定性等關鍵技術參數(shù)與同行業(yè)龍頭公司相比存在較大差距。

在監(jiān)管層的問詢下，蘇大維格表示，公司證券部門在回復相關互動易問題時，直接使用了“光刻機”、“龍頭芯片公司”等可能引起誤解的表述，未能充分考慮到部分投資者可能對光刻機的技術路線、相關技術的具體應用領域等情況不了解，未詳細說明公司光刻設備的具體類型，公司主要的應用領域，與行業(yè)龍頭企業(yè)的差距，以及客戶主要用途等信息；也未說明相關設備收入占公司收入比重較低，未充分提示相關風險。前述回復引起了部分投資者誤會和誤解，并導致公司股價發(fā)生較大波動，對此，公司及公司證券部門誠懇向投資者表示歉意，并將積極吸取經(jīng)驗教訓，進一步完善相關制度和程序，持續(xù)學習相關產(chǎn)業(yè)政策和文件，努力提升與投資者互動溝通的嚴謹性與信息傳遞的完整性，不斷提升公司信息披露水平。

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