視頻漢化/觀察者網 呂棟

【文/觀察者網 呂棟】

“這不是我們的選擇，而是政府們（《瓦森納協(xié)定》成員國）的選擇?！比涨?，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥CEO溫彼得再次就向中國大陸出口EUV光刻機一事解釋道。他今年1月曾表示，中國不太可能獨立復制出（replicate）頂尖的光刻技術，但也別那么絕對，“他們肯定會嘗試”。

觀察者網注意到，由于最先進的EUV設備無法向中國大陸出口，溫彼得自2021年以來曾多次發(fā)聲。2021年4月，他曾喊話美國政府，對華出口管制不僅不能阻礙中國技術進步，也將傷害美國自身的經濟，限制出口只會加快中國自主研發(fā)的速度。

但美國顯然對溫彼得的表態(tài)視而不見。

2021年7月，美國官員曾透露，拜登政府在確認EUV光刻機在科技產業(yè)中的戰(zhàn)略價值后，選擇延續(xù)特朗普時期的政策。隨后溫彼得表示，針對中國大陸的情況，該公司將不得不“靜觀其變”。

在全球芯片短缺讓產業(yè)鏈“叫苦不迭”之際，阿斯麥作為最關鍵半導體生產設備——光刻機的制造商，愈發(fā)引起產業(yè)界的關注。美國消費者新聞與商業(yè)頻道（CNBC）本月對阿斯麥總部進行了實地探訪。

圖源：阿斯麥

因為缺芯，“每天都在掙扎”

在荷蘭南部靠近比利時邊境的小鎮(zhèn)費爾德霍芬（Veldhoven），坐落著世界上唯一一家能夠生產極紫外光刻機（EUV）的企業(yè)——阿斯麥（ASML）。在為數據中心、汽車和iPhone提供算力的先進半導體制造中，EUV光刻是最昂貴的一步。

“阿斯麥在極紫外光刻機制造方面處于壟斷地位，我們今天使用的每一塊先進處理器都需要用到EUV光刻機?！泵绹虼拇髮W（Tufts University）弗萊徹學院助理教授克里斯?米勒表示，每一臺EUV光刻機都是有史以來最復雜的設備之一，這種機器重達180噸。

EUV是極紫外光（Extreme Ultraviolet）的縮寫，這是一種波長極短的光，阿斯麥生產的設備可以大量產生這種光，用于在硅片上雕刻小而復雜的電路。極紫外光是由二氧化碳激光去轟擊每秒噴出5萬次的液態(tài)錫滴（molten tin）而產生，這種光通過一個直徑為0.65米的橢球反光鏡送進光刻機內。一部分極紫外光微粒被照射到硅片表面，進而雕刻出決定每個芯片功能的微小圖案。

極紫外光刻機內部

由于全球芯片短缺，從索尼的游戲機PS5到雪佛蘭汽車都開始出現訂單積壓，芯片制造商對阿斯麥EUV光刻機的需求大幅提升。自2018年底以來，阿斯麥的股價已經飆升超過340%，這使得該公司的市值超過英特爾等一些大客戶。

阿斯麥CEO溫彼得（Peter Wennink）表示，該公司成立38年以來一直致力于降低半導體的生產成本，并將在“未來幾十年”繼續(xù)這樣做。“世界需要更多的芯片，”溫彼得表示，“所以我們需要制造更多機器，順便提一句，只要我們能繼續(xù)降低每個晶體管的生產成本，這些光刻機的平均售價就會不斷提升。”

即便如此，溫彼得也認為，全球芯片短缺對阿斯麥來說是“Catch-22”（第22條軍規(guī)，意即進退兩難、左右為難）。

“我們收到很多來自供應商的信息，他們說，‘嘿，我們可能會延遲向你們交付模塊，因為我們無法獲得芯片。’我們說，‘如果我們得不到芯片，我們就不能制造機器來生產更多的芯片?！睖乇说锰寡裕⑺果溔栽诮洜I，“但每天都在掙扎?！?

阿斯麥CEO溫彼得

“嚴重依賴美國零部件的荷蘭公司”

據溫彼得透露，阿斯麥過去10年共賣出140臺EUV光刻系統(tǒng)，現在每臺售價高達2億美元，而下一代高數值孔徑（High NA）EUV光刻機的售價將超過3億美元。

市場調研機構Semico Research的制造業(yè)務董事總經理喬安妮?伊托評論稱，阿斯麥的EUV光刻系統(tǒng)過于昂貴，以至于大多數公司都買不起。她認為，這會把很多廠商排除在市場之外，包括芯片制造商格羅方德。由于成本太高，格羅方德于2018年宣布停止7nm及以下先進制程的研發(fā)。

如今，阿斯麥EUV光刻機的客戶只有五家（臺積電、三星、英特爾、SK海力士和美光）。2021年，最大的三個客戶——臺積電、三星和英特爾占阿斯麥業(yè)務量的84%。臺積電表示，該公司在2019年率先采用EUV光刻機大規(guī)模量產芯片，從那之后一直處于領先地位，芯片制程至少領先三星和英特爾一個節(jié)點。

CNBC認為，阿斯麥在光刻機領域的主導地位仍是“一個相對較新的現象”。10年前，該公司開始進軍EUV研發(fā)是由英特爾、三星和臺積電的重大投資決定的。

“我們沒有錢，”1999年加入阿斯麥的溫彼得表示，“所以我們出去尋找合作伙伴，這實際上是我們建立公司的基礎。我們也因此被迫成為一個系統(tǒng)架構師和系統(tǒng)集成商。”

把時間拉回到1984年，阿斯麥剛成立時是荷蘭電子巨頭飛利浦的子公司。在荷蘭艾恩德霍芬飛利浦辦公大樓旁邊一間漏水的小屋子里，阿斯麥推出第一臺用于半導體光刻的設備，這種技術是20世紀50年代在美國軍事實驗室發(fā)明的。

阿斯麥開啟光刻機研發(fā)的地方 圖源：阿斯麥